Teknologi film tipis
Teknologi film tipis adalah salah satu teknologi mikroelektronika yang digunakan untuk fabrikasi sensor. Cara kerja dari teknologi ini adalah pembuatan film tipis berbahan logam, semikonduktor atau polimer yang kemudian digunakan untuk fabrikasi sensor. Proses fabrikasi sensor dengan teknologi film tipis memanfaatkan film tipis dengan ukuran mikrometer dengan metode penumbuhan secara penguapan, kimia maupun fisika. Metode penumbuhan yang umum dalam teknologi film tipis antara lain epitaksi sinar molekul, pelapisan listrik, oksidasi, semprot pirolisis, pengendapan uap kimia, atau pembersitan.[1] Kelebihan dari teknologi film tipis adalah hanya membutuhkan biaya yang murah apabila diadakan produksi massal. Produksi sensor juga menjadi lebih cepat dan lebih sensitif karena jarak antarkomponen elektronik menjadi lebih dekat.[2]
Film tipis[sunting | sunting sumber]
Film tipis yang digunakan untuk fabrikasi sensor dibuat melalu fotolitografi. Resolusi layar dari film tipis ditentukan oleh proses fotolitografi. Umumnya, resolusi film tipis untuk fabrikasi sensor berukuran antara lima hingga sepuluh mikrometer. Saat ini skala resolusi film tipis telah dikembangkan ke ukuran nanometer dengan teknologi nanoteknologi.[2]
Referensi[sunting | sunting sumber]
Catatan kaki[sunting | sunting sumber]
- ^ Wiranto 2020, hlm. 8.
- ^ a b Wiranto 2020, hlm. 9.
Daftar pustaka[sunting | sunting sumber]
- Wiranto, Goib (2020). Pengembangan Sensor Berbasis Teknologi Mikroelektronika untuk Pemantauan Pencemaran Lingkungan. Jakarta: LIPI Press. ISBN 978-602-496-143-5. Diarsipkan dari versi asli tanggal 2021-09-26. Diakses tanggal 2021-09-28.