Ukuran asli (2.782 × 3.952 piksel, ukuran berkas: 4,22 MB, tipe MIME: image/jpeg)
Berkas ini berasal dari Wikimedia Commons dan mungkin digunakan oleh proyek-proyek lain.
Deskripsi dari halaman deskripsinya ditunjukkan di bawah ini.
Ringkasan
DeskripsiPulsed Laser Deposition in Action.jpg
English: Thin films of oxides are deposited with atomic layer precision using pulsed laser deposition. A high-intensity pulsed laser is shooting onto the rotating white target consisting of Al2O3 (alumina). The laser pulse creates a plasma explosion visible as the purple cloud. The plasma cloud expands towards the square substrate, consisting of SrTiO3 (strontium titanate), where it deposits thin layers of alumina, one atomic layer at a time. This results in a conducting interface between the two materials which are otherwise insulating. The substrate is mounted on a heating plate, glowing red from a temperature of 650 ºC, to improve the crystallinity of the alumina thin film.
untuk berbagi – untuk menyalin, mendistribusikan dan memindahkan karya ini
untuk menggubah – untuk mengadaptasi karya ini
Berdasarkan ketentuan berikut:
atribusi – Anda harus mencantumkan atribusi yang sesuai, memberikan pranala ke lisensi, dan memberi tahu bila ada perubahan. Anda dapat melakukannya melalui cara yang Anda inginkan, namun tidak menyatakan bahwa pemberi lisensi mendukung Anda atau penggunaan Anda.
berbagi serupa – Apabila Anda menggubah, mengubah, atau membuat turunan dari materi ini, Anda harus menyebarluaskan kontribusi Anda di bawah lisensi yang sama seperti lisensi pada materi asli.
Berkas ini mengandung informasi tambahan yang mungkin ditambahkan oleh kamera digital atau pemindai yang digunakan untuk membuat atau mendigitalisasi berkas. Jika berkas ini telah mengalami modifikasi, rincian yang ada mungkin tidak secara penuh merefleksikan informasi dari gambar yang sudah dimodifikasi ini.